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取向对PLD法制备BiFeO3薄膜性能的影响

黄艳芹

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2013.13.027

以快速等离子烧结法(SPS)制备的BiFeO3块体为靶材,用激光脉冲沉积(PLD)法在不同衬底上制备了BiFeO3 (100)/LaNiO3 (100)/Si(100)、BiFeO3(111)/LaNiO3 (111)/SrTiO3 (111)、BiFeO3(110) /Pt/TiO2/SiO2/Si、BiFeO3 (110) LaNiO3 (110)/Pt/TiO2/SiO2/Si不同择优取向的薄膜,并对薄膜进行了XRD和SEM分析.X射线衍射结果表明,BiFeO3薄膜外延沉积在导电层衬底上,并且它们具有相同的高度取向.SEM分析表明,薄膜上的晶粒是柱状形态,表面光滑致密且颗粒分布非常均匀,晶粒的边界和尺寸也能被清晰地观察到.通过铁电铁磁性能研究,BiFeO3(111)择优取向性能最佳.SrTiO3衬底上(111)取向的BiFeO3薄膜铁电剩余极化值达到了30.3μC/cm2,漏电流为1.0×10-3A/cm2,饱和磁化强度为20.0kA/m.

关键词: BiFeO3薄膜 , 铁电铁磁性 , 激光脉冲沉积(PLD)

微图案BiFeO3薄膜的光刻自组装制备与表征

王艳 , 谈国强 , 苗鸿雁

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.10223

利用光刻自组装技术在玻璃基板上成功制备出图案化的BiFeO3薄膜.AFM和接触角测试表明,紫外光照射引起十八烷基三氯硅烷(OTS)单层膜改性,形成憎水的自组装单分子(SAM)区域和亲水的硅烷醇区域;XRD和XPS结果显示,OTS单层膜和紫外照射处理的玻璃基板表面诱导吸附的薄膜为纯相六方扭曲钙钛矿结构的BiFeO3薄膜:SEM和EDS表明,SAM区域沉积的BiFeO3薄膜不连续,在超声波震荡下容易脱落,而硅烷醇区域沉积的BiFeO3薄膜致密均一,与基底结合牢固,边缘轮廓清晰.

关键词: 光刻白组装技术 , BiFeO3薄膜 , 微图案

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